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AccuSizer Mini 在線液體顆粒計數器

簡要描述:· CMP中大粒子(LPC)監控
· CMP中研磨液在線粒度表征
· 納米復雜制劑中在線粒度表征
· 濕化學品(wet chemical)中顆粒物的在線檢測
· CMP 漿料(研磨液)的磨損監控
· 納米*材料生產過程中粒度監控

  • 更新時間:2025-09-04
  • 廠商性質:生產廠家
  • 產品型號:
  • 訪  問  量:17
詳情介紹

Why online?

為什么用在線?

省錢!

How?

如何省錢?

提高良品率!

提高過濾器的利用率,提高過濾器的使用壽命,減少宕機時間。

How?

如何提高良品率?

快速揪出晶圓劃痕的元兇?尾端大粒子,Large Particle Count(LPC)0.15-20μm。

CMP制程中Slurry的LPC及其容易變化,如外來污染,由于化學環境、CMP傳遞運輸系統,泵的輸送,因剪切力的改變而導致的粒子聚集。slurry本身就不穩定。所以控制CMP slurry的尾端大顆粒(LPC)對提高CMP良品率至關重要。

Who should use?

誰應該使用?

研磨液(Slurry)的生產商,CMP SDS系統集成供應商,芯片IDM生產企業或晶圓代工廠

Where to use?

在哪里使用?

POU 端監控過濾效率,過濾前和過濾后。

選擇合適的過濾器。

確保CMP工藝前CMP slurry中具有可控的LPC的量。






產品介紹 | INTRODUCTION

AccuSizer® Mini在線液體顆粒計數器,不僅能根據客戶需求靈活匹配功能模塊進行在線顆粒監測,還具備LE400、FX和FX Nano等多種傳感器選項,以應對不同檢測范圍和濃度需求。

借助單顆粒光學傳感技術(Single Particle Optical System,SPOS),該系列產品能夠高精度地檢測遠離主峰的幾個PPT水平標準差的LPC分布,并快速統計數十萬個粒子,為生產過程提供真實可靠的數據支持。


針對研磨液(Slurry)濃度的特點,AccuSizer® Mini系列在線液體顆粒計數器可配置原液進樣、一步稀釋、二步稀釋模式,適應多種樣品類型。其自動化樣品混合倉和傳感器清洗功能確保了數據的準確性和一致性。


AccuSizer® Mini專為工業生產線設計,可通過PLC設備與企業LIMS系統集成,實現高效控制和監控。

AccuSizer Mini 在線液體顆粒計數器

實時監控大顆粒數量(LPC)


提高CMP制程良品率










產品優勢 | HIGHLIGHT


應用領域 | Application

功能和優勢 | Features & Benefits







CMP slurry(研磨液)、復雜納米制劑、墨水等需要監控大粒子數量(Large Particle Count)的領域

不同于LAB的設計理念,符合在線產品的需求。

全自動化和模塊化設計理念,大大減少維護成本和周期。

自動稀釋,專為用于高濃度的研磨液(slurry)的顆粒計數而設計。

SPOS單顆粒計數技術,可對150nm的粒子進行量化計數。

512通道的超高分辨率。可以量化極少數LPC。

FX系列專為氧化鈰而設計,相對于LE/LS SPOS來說,FX系列有超過200倍的檢測濃度。

自動稀釋加持下,可對106/ml的濃度進行計數!



SPOS

單顆粒計數技術


150nm

進行量化計數


512

通道的超高分辨率


106/ml

計數濃度




儀器原理 | PRINCIPLE


多種傳感器 | Multiple Sensors








AccuSizer Mini 在線液體顆粒計數器


AccuSizer Mini 在線液體顆粒計數器

SPOS(LE+LS)

單顆粒光學傳感技術原理示意圖

AccuSizer Mini LE 系統


 SPOS(Focus Beam+LE)

聚焦光束計數技術原理示意圖

 AccuSizer Mini FX 系統


Focused Beam+LS

聚焦光束納米計數技術原理示意圖

AccuSizer Mini FX-Nano 系統




儀器參數 | SPECIFICATION


性能規格

     AccuSizer Mini LE 系統              AccuSizer Mini FX 系統    AccuSizer Mini FX-Nano 系統

分析方法及原理

SPOS(LE+LS)

SPOS(Focus Beam+LE)

SPOS(Focus Beam+LS)

粒徑檢測范圍

0.5-400μm

0.65-20μm

0.15-200μm

傳感器極限濃度

10,000顆/mL

106顆/mL

106顆/mL

樣本量

最小10mL



精度

1μm PSL標準粒子粒徑平均值±10%


測量時間

CMPslurry(研磨液)

(Silicon)、墨水、納米乳

CMPslurry

(研磨液)(Cerium)

CMPslurry(研磨液)

(納米級Silicon)

安裝要求




電源

3相電源插座(IEC C14插座)、100至240VAC最大功率5安培

壓縮空氣或氣體

1/4’’push on、3.5至5.6 kg/cm2、50至80 psi

1/4’’flare、1.8 to 2.5 kg/cm2、25至35 psi

進樣

1/4’’flare、0.2 to 2.1 kg/cm2、3至30 psi

排液

1/4’’flare、零壓力排放

尺寸

863.6mm*355.6mm*279.4mm(34’’* 14’’* 11’’)


注:

1. 實際配置可能隨系統升級發生改變,以成交時信息為主;

2. SPOS,Single Particle Optical Sizing光學單顆粒傳感技術;

3. LE,Light Extinction, 光阻法;

4. FX, Focused Beam,光聚焦單顆粒計數技術;

5. LS,Light Scattering,光散射。






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